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    这里的铜互连技术，自然指的是把集成电路互连层，用铜金属材料取代现有的铝金属互连材料的一种工艺，相比较铝，铜良好的电阻和耐温性。是未来提高频率的核心制程技术。

    台积电便是在0.13微米制程下抢先开发出铜互连，一举超越了联电。

    现在苏远山提出概念早了将近五年。

    苏远山当然不可能掌握铜互连工艺，但他知道方向。

    由于铜在二氧化硅中扩散系数很大，同时粘附性也很弱，因此在铜互连导线外面必须要有一层阻挡层来阻挡其扩散。而为了更好地镀铜，还需要先在制程电路上生成一层薄薄的cu籽晶层……

    而生成cu籽晶层的方法，又有物理气相沉淀和化学气相沉淀以及原子层淀积之分。

    当生成铜籽晶层后，便可进行电镀，最后抛光完成互联。

    而目前，陈建国便在恶补相关知识，同时全国乱窜，到处拜访相关领域的专家。

    作为师弟和课题提出者，苏远山只能从金钱上支持他……

    ……

    父子俩在办公楼下分开，苏星河很忙，他要做16位单片机的最后技术总结，还要帮儿子赚钱。

    而苏远山也忙，要忙着做实验。

    如今远芯的各个实验室已经被安排得满满的。

    因为除了科技园这边要做实验之外，电科，省大和理工等学校也纷纷提出各种实验申请。

    这些学校当然都有实验室，但无论从设备的先进程度还是齐备程度，才刚刚建立的远芯科技园都有着无与伦比的优势。

    以至于……现在的情况是，就算苏远山来物理实验室，也得等安排。

    进入实验室，他看到霍尔效应实验仪前有个熟悉的人。

    “曲慧姐？”苏远山轻声唤了一声。

    曲慧依旧一头短发，正在和一个技术员分析数据，闻言回头冲苏远山一笑：“听说你也要做霍尔效应试验？”
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